信噪比提高到5倍 堀場制作所開發(fā)出光掩模異物檢查裝置
2007-11-27 15:52:53
堀場制作所開發(fā)出了光掩模（Reticle/Mask）異物檢查裝置“PR-PD2HR”，該產(chǎn)品的信噪比（S/N）提高到以往機(jī)型的5倍，從而提高了異物的檢查能力。可在進(jìn)行了圖案加工后的光掩模上，檢測到直徑0.35μm的異物。此外，以前機(jī)型無法檢查位于表模（Pellicle）的邊框4mm以內(nèi)的區(qū)域，此次通過提高S/N的比數(shù)，檢查范圍擴(kuò)大到了距邊框1mm處。
此次裝置的照明用光束的光點(diǎn)直徑比以前機(jī)型有所縮小，提高了來自測量面的散射光S/N比，提高了異物檢測能力。分別從圖案面（表面）、玻璃面（背面）、表膜面三方面檢測150mm見方的光掩模的100mm×100mm區(qū)域時(shí)，處理能力（Throughput）可達(dá)3片/小時(shí)。
測量時(shí)使用的照明光源，是發(fā)光波長為488nm、輸出功率為10mW的Ar氣體激光器。該照明光源可支持含局部潔凈技術(shù)“SMIF（機(jī)械標(biāo)準(zhǔn)介面，Standard Mechanical Interface）”系統(tǒng)在內(nèi)的各廠商的光掩模盒（Stepper Case）。
該裝置的尺寸為1710mm×1280mm×1540mm。該公司將從2007年12月開始接受該裝置的訂單。交貨期為接到訂單起的5個(gè)月。價(jià)格為9800萬日元起。
該公司將在2007年12月5～7日日本千葉縣幕張Messe會展中心舉辦的“SEMICON JAPAN 2007”展會上展出該產(chǎn)品。
