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重慶摩方精密科技股份有限公司

重慶摩方精密科技股份有限公司致力于將3D打印應(yīng)用于精密快速成型和直接生產(chǎn)制造。摩方精密（BMF Precision Tech Inc.）成立于2016年，是全球微納3D打印技術(shù)及精密加工解決方案的領(lǐng)軍企業(yè)。憑借自主創(chuàng)新研發(fā)的“面投影微立體光刻”（PμSL）專利技術(shù)，實現(xiàn)2μm/10μm/25μm超高打印精度，且兼具±10μm/±25μm/±50μm超高公差控制能力。

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重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S140 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S140產(chǎn)品特色：該超高精密3D打印設(shè)備適用的打印材料為光敏樹脂，光學(xué)精度為10μm，最大成型尺寸為94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S240A 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S240A產(chǎn)品特色：該超高精密3D打印設(shè)備適用的打印材料為光敏樹脂、陶瓷漿料，光學(xué)精度為10μm，最大成型尺寸為100mm(L)×100mm(W)×75mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S150 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S150產(chǎn)品特色：該超高精密3D打印設(shè)備適用的打印材料為光敏樹脂、生物材料、陶瓷漿料，打印層厚范圍為20～100μm)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S350 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備S350產(chǎn)品特色：該超高精密3D打印設(shè)備適用的打印材料為光敏樹脂，光學(xué)精度達到25μm，最大成型尺寸為100mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備D1025 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備D1025產(chǎn)品特色：該超高精密3D打印設(shè)備適用的打印材料為光敏樹脂、陶瓷漿料，光學(xué)精度達到10μm & 25μm，最大加工尺寸為100mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設(shè)備D0210 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印D0210產(chǎn)品特色：該超高精密3D打印機適用的打印材料為光敏樹脂，光學(xué)精度達到2μm & 10μm，最大成型尺寸為100 mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。

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公司名稱：重慶摩方精密科技股份有限公司
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